首頁 >快訊 >

旺宏電子:公司研發(fā)的19nmSLC閃存進展順利 良率極佳

做為最早問世的閃存類型,SLC閃存在性能、可靠性上是最佳的,P/E擦寫次數(shù)在1萬到10萬次之間,遠超MLC、TLC、QLC閃存。

不過SLC閃存成本也是最高的,而且容量也不如其他的閃存類型,所以近年來應用市場越來越狹窄,主流市場已經(jīng)銷聲匿跡,生產(chǎn)廠商也越來越少。

旺宏電子日前透露,該公司研發(fā)的19nm SLC閃存進展順利,良率極佳,新產(chǎn)品新應用已經(jīng)進入驗證階段。

旺宏表示,他們的SLC閃存率先實現(xiàn)了在主芯片處理ECC的創(chuàng)新主張,已成為最佳品質(zhì)及成本效率典范;19nm SLC NAND也取得 NAND 重要成本優(yōu)勢,全面進入業(yè)界領(lǐng)先制程。

不過旺宏電子并沒有透露SLC閃存的具體規(guī)格及產(chǎn)品信息。

除了SLC閃存,旺宏也在研發(fā)3D閃存,48層堆棧的3D閃存已經(jīng)完成研發(fā),很快會量產(chǎn),后續(xù)則會沖刺192層3D閃存。

關(guān)鍵詞: 閃存

責任編輯:Rex_01

推薦閱讀